美国有位叫克里斯·米勒的专家，写过一本很火的《芯片战争》。他曾抛出个观点，让西方不少人坐立难安。

  他核心观点指出，中国人买光刻机不只为扩生产线，更可能用于研发技术，这种倾向比单纯造芯片更值得警惕。

  这话听着是不是有点绕？几亿美金一台的机器，买回来不造芯片，难道还有别的用处？

  克里斯·米勒不是普通学者，他是美国塔夫茨大学弗莱彻学院的历史学教授，还担任美国外交政策研究所欧亚区主任，专门研究宏观经济和地缘政治。

  他写的《芯片战争》原作于2022年10月4日出版，简体中文版于2023年5月引进中国，该书被英国《金融时报》和《经济学人》评为2022年度最佳图书，里面的内容基于大量史料和对行业人士、官员的采访，可信度较高。

  要理解他这句话，首先得搞明白光刻机到底是啥。简单说，光刻机是制造芯片的核心设备，芯片上那些微小的电路图案，全靠它精准“印”在硅片上。

  它的技术难度极高，核心部件包括光源、镜头和工作台，每一部分都需要极致的精度。

  目前全球能造高端光刻机的企业没几家，荷兰ASML公司在全球高端光刻系统所占份额超过80%，在极紫外（EUV）光刻机领域更是实现100%垄断，是唯一能造最先进极紫外光刻机的企业。

  一台高端EUV光刻机售价能达到上亿美元，先进机型甚至突破1.8亿美元，普通人根本想象不到它的金贵。

  按常理说，花这么多钱买光刻机，肯定是用来造芯片。毕竟现在芯片太重要了，从手机、电脑到微波炉、汽车，再到军事装备，几乎所有电子设备不能离开它。

  克里斯·米勒自己也说，芯片就像上个时代的石油，是现代经济和军事的命脉，谁掌握了芯片技术，谁就掌握了主动权。那他为啥还担心中国人买了光刻机不用来造芯片？

  答案很简单，他怕的不是中国人不用光刻机造芯片，而是怕中国人用光刻机做更基础的事——搞研发技术，最终摆脱对西方技术的依赖。

  大家可能不知道，芯片产业是个极其复杂的全球产业链，没有一点一个国家能单独生产最尖端的芯片。

  长期以来，中国在芯片领域一直面临“卡脖子”问题，尤其是7纳米及以下的先进制程芯片，核心设备和材料大多依赖进口。

  美国从2022年10月开始，出台了一系列出口管制新规，限制14纳米以下制程的设备出口。

  2023年10月又进一步升级管制，提高深紫外光刻机的出口审核标准，就为了阻止中国获得高端光刻机和有关技术，限制中国芯片产业的发展。

  在这种情况下，中国买到的光刻机，大多不是最先进的极紫外光刻机，而是相对成熟的深紫外光刻机。

  如果单纯用来造芯片，这些光刻机确实造不出最顶尖的产品，主要满足中低端芯片的生产需求。

  但克里斯·米勒看透了一点：中国人买这些光刻机，更重要的目的是研究它的技术原理，搞清楚里面的核心构造，为自主研发铺路。

  这不是瞎猜，而是有真实依据的。光刻机的用途不止造芯片，它还能用于微电子机械系统、印刷电路板和显示屏制造等多个领域。

  比如在显示屏生产中，光刻设备可用来制造大尺寸光刻掩膜版、背光照明面板等关键部件。

  中国企业拿到光刻机后，一方面能够用它生产这些领域的产品，保障相关产业的发展；另一方面，更能通过拆解、研究，掌握光刻机的设计思路和制造技术。

  这种“逆向研发”的能力，中国在很多领域都展现过，从高铁到家电，都是从学习国外技术开始，最终实现自主创新。

  克里斯·米勒在书中明确说，芯片产业的创新不靠弯道超车，也不靠单纯的实用主义，重点是长期的技术积累和产业链协同。

  他担心的是，中国通过研究买来的光刻机，慢慢突破核心技术，最终造出自己的光刻机。

  一旦中国实现光刻机的自主生产，就等于打破了西方的技术垄断，整个全球芯片产业链的格局都会被改变。

  事实也正在朝着这个方向发展。2024年9月，中国工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》里，就包含了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，其中氟化氩光刻机光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

  到了2025年9月，中芯国际已经在测试由上海初创公司宇量昇制造的国产深紫外光刻机，这款设备是采用浸没式技术，能用于28纳米制程芯片生产，甚至能通过多重曝光技术尝试7纳米芯片的试产。

  另外，上海微电子生产的后道封装光刻机，在国内的市场占有率接近90%，全球占比约为15%，打破了ASML、尼康的垄断。

  这些进展背后，离不开对现有设备的研究和借鉴。中国企业买光刻机，不是为了短期靠造芯片赚钱，而是为了长期的技术自主。

  这种“放长线钓大鱼”的思路，正是克里斯·米勒和西方势力最担心的。他们不怕中国在现存技术框架内追赶，就怕中国跳出框架，建立起自己的技术体系。

  可能有人会问，直接造芯片不好吗？为啥要花精力研究光刻机？这里要说明白，造芯片的利润确实高，但核心设备掌握在别人手里，就等于命脉被别人掐住。

  美国之前多次升级出口管制，导致不少中国芯片企业面临设备短缺的问题，就是最好的教训。

  只有掌握了光刻机这种核心设备的制造技术，中国芯片产业才能真正的完成自主可控，不用再看别人的脸色。

  克里斯·米勒在接受媒体采访时也承认，中国企业在芯片领域已经取得了一些重要成功，比如中芯国际的先进逻辑生产、壁仞科技的图形处理器设计。

  但几乎每一项进步，都遭到美国新的出口管制。这反而让中国推动半导体自给自足的决心更坚定。

  他认为，中国芯片产业的发展虽然艰难，但只要国家坚定扶持、企业坚持研发，最终会走出自己的道路。

  现在大多数人应该明白，克里斯·米勒观点的真正含义了。他强调中国采购光刻机的技术消化倾向，本质上是怕中国通过这一种方式突破技术封锁，打破西方在芯片领域的垄断地位。

  他看清了中国发展科技的长远眼光，也知道这种脚踏实地的技术积累，比单纯的产能扩张更有威胁。

  从中国的角度来说，买光刻机只是第一步。我们的目标从来不是跟着别人后面造芯片，而是建立起完整的自主产业链。

  经过这些年的发展，中国已形成了覆盖芯片设计、制造、封装测试及材料设备的完整产业链。

  2025年中国大陆半导体设备市场销售额占全球比重攀升至43%，连续第10个季度稳居全球最大半导体设备市场。

  比如高端光刻胶领域，2025年ArF光刻胶国产化率达到20%以上，KrF光刻胶国产化率提升至35%，但EUV光刻胶仍在攻关阶段；企业平均研发投入强度与国际头部企业存在差距，知识产权布局还比较薄弱。

  西方势力越是担心，越说明我们的发展趋势是对的。买光刻机不用来造芯片不可怕，可怕的是失去自主创新的决心。

  相信随技术的不断突破，中国最终会在芯片领域实现真正的自主可控，让所谓的“卡脖子”难题成为历史。

  需要说明的是，中国目前在EUV光刻机领域仍处于研发攻关阶段，尚未有公开的量产级产品，与ASML在高端光刻机领域仍存在技术代际差距，短期内难以全面超越。